作者：杨怡，陈果（杭州士兰集昕微电子有限公司，浙江 杭州 310000）

摘要：大束流离子注入机是半导体行业中一种十分重要的设备，在生产过程中，影响注入机产品良率和产能的关键因素是颗粒的多少。大束流离子注入机采用靶盘式结构，腔体空间大，腔体内真空度相较于中束流离子注入机低，束流路径大，因此产生颗粒的几率更大。本文先分析了大束流离子注入机颗粒产生的原因，然后提出了气体传导率限制缝和锯齿石墨两种减少颗粒的结构设计，并进行了实验验证，最后给出了颗粒偏高后查找颗粒源的几种方法。

关键词：离子注入机；颗粒减少；气体传导率限制缝；锯齿石墨；颗粒源

在线预览：大束流离子注入机颗粒改善

摘自《自动化博览》2018年7月刊