Swagelok半导体服务公司推出全新原子层沉积（ALD）工艺用阀

    俄亥俄州, 梭伦―2004年2月25日―Swagelok半导体服务公司（SSSC）向半导体产业推出一款全新的阀产品。目前在Swagelok公司的独立销售网络和服务中心均有销售的Swagelok® ald系列阀是应用于原子层沉积（ald）工艺的超高纯度气动阀。ald技术是半导体产业的一项新兴沉积技术。

    原子层沉积工艺是半导体处理技术中发展速度最快的一个领域，为了达到它的严格要求，Swagelok的ALD系列阀具备了以下优势：该阀的制动速度极快，制动时间不超过5毫秒；它有极高的循环寿命-在产品评估时循环次数超过了25,000,000。我们正在申请专利的流量设定功能能够保证制程气体输送的一致性。采用316L VIM/VAR不锈钢材料制成，阀体带1/4英寸VCR®，以及1/4英寸和6毫米的对焊管接头。可供选择的产品包括一款高温型，它最高可适用于200摄氏度的温度，还有多门、多路阀以及模块化表面安装型等各种配置。

    Swagelok半导体服务公司的总部位于美国加利福尼亚州的圣克拉拉，其制造设施与分销机构则位于俄亥俄州的克利夫兰附近。Swagelok半导体服务公司是Swagelok公司的一个战略性业务部，致力于为全球的半导体制造产业开发与制造流体系统部件技术。如需获得更多信息，请访问该公司网站，www.swagelok.com